Главная / Магазин / Кресла для руководителя / на хромированной крестовине / Кресло руководителя CHAIRMAN 755
Кресло руководителя CHAIRMAN 755
Артикул: СН-755
Страна производства | Россия, Китай |
---|---|
Каркас | Монолитный |
Высота в нижнем положении (мм) | 1085 |
Высота в верхнем положении (мм) | 1180 |
Высота сиденья в опущенном положении (мм) | 480 |
Высота сиденья в поднятом положении (мм) | 575 |
Диаметр крестовины (мм) | 700 |
Ширина сиденья (мм) | 450 |
Глубина сиденья (мм) | 470 |
Высота спинки (мм) | 605 |
Механизм | С возможностью фиксации кресла в рабочем положении. Регулировка кресла по высоте |
Подлокотники | Металлические хромированные с накладками из экокожи |
Крестовина | Металлическая хромированная |
Рекомендуемая нагрузка (кг) | до 120 |
14 220 руб.
Страна производства | Россия, Китай |
---|---|
Каркас | Монолитный |
Высота в нижнем положении (мм) | 1085 |
Высота в верхнем положении (мм) | 1180 |
Высота сиденья в опущенном положении (мм) | 480 |
Высота сиденья в поднятом положении (мм) | 575 |
Диаметр крестовины (мм) | 700 |
Ширина сиденья (мм) | 450 |
Глубина сиденья (мм) | 470 |
Высота спинки (мм) | 605 |
Механизм | С возможностью фиксации кресла в рабочем положении. Регулировка кресла по высоте |
Подлокотники | Металлические хромированные с накладками из экокожи |
Крестовина | Металлическая хромированная |
Рекомендуемая нагрузка (кг) | до 120 |
14 220 руб.
Страна производства | Россия, Китай |
---|---|
Каркас | Монолитный |
Высота в нижнем положении (мм) | 1085 |
Высота в верхнем положении (мм) | 1180 |
Высота сиденья в опущенном положении (мм) | 480 |
Высота сиденья в поднятом положении (мм) | 575 |
Диаметр крестовины (мм) | 700 |
Ширина сиденья (мм) | 450 |
Глубина сиденья (мм) | 470 |
Высота спинки (мм) | 605 |
Механизм | С возможностью фиксации кресла в рабочем положении. Регулировка кресла по высоте |
Подлокотники | Металлические хромированные с накладками из экокожи |
Крестовина | Металлическая хромированная |
Рекомендуемая нагрузка (кг) | до 120 |
Оставьте отзыв
Заполните обязательные поля *.